凱勒斯科技有限公司
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成立於2011年，是由一群努力實踐自我的快樂工作者所組成,專注於綠能科技產業鏈的發展與整合,現以供應切割、研磨及拋光等相關製程的材料與加工設備，廣泛地應用於半導體、發光二極體(LED)、太陽能(Solar)及各類精密陶瓷、寶石等產業的加工。同時積極尋求國內外各先進夥伴，合作開發新產品、新技術及新應用，透過系統化的技術整合，共同開發新綠能科技及製程技術，成為具有競爭性及未來性的業界領航者。----------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------相關產品 設備:自動CMP拋光機, 自動上蠟機, 自動水平式精密研磨機, 自動水平式精密研磨機, 自動精密拋光機, 四軸精密拋光機, 全自動拋光機, 全自動LED晶圓貼膜機, 雙面研磨拋光機, 全自動上蠟機, 自動精密拋光機, 自動CMP拋光機耗材:鑽石盤, 固態蠟, 修石, 精密陶瓷盤, 精拋盤, CMP拋光液, 鑽石修刀, 清潔劑, 去蠟液, 碳化硼, 掏棒, 液態蠟, 免修整鑽石砂輪, 精密陶瓷盤, 銅盤, 拋光盤, 鑽石拋光液, 鑽石劃線刀, 冷卻液, 多晶鑽石粉, 綠碳化矽, 鍍鎳鑽石粉Equipment:Automatic CMP Polishing Machine, Automatic Wax Bonding Machine, Automatic Horizontal Precision Grinding Machine, Automatic Vertical Precision Grinding Machine, Automatic Precision Polishing Machine, Four Axis Precision Polishing Machine, Automatic Polishing Machine, Automatic LED Wafer Laminator, Double-Side Lapping Polishing Machine, Automatic Wax Bonding Machine, Automatic Precision Polishing Machine, Automatic CMP Polishing MachineConsumables:Fixed Diamond Lapping Plate, Liquid Wax, Solid Wax, Diamond Grinding Wheel (Dressing Free), Dressing Stone, Ceramic Plate, Ceramic Condition Ring, Copper Plate, Fine Polishing Plate, Polishing Pad, CMP Slurry, Diamond Slurry, Diamond Dresser, Diamond Scriber, Cleaner, Coolant, Wax Removal Detergent, Polycrystalline Diamond Powder, Boron Carbide Powder, Silicon Carbide Powder, Corning Tool, Nickel-Plated Diamond Powder
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